[发明专利]数字曝光方法、电子元器件基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202110293656.7 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113050386A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 栾兴龙;冯京;苌川川;王志冲;刘鹏;袁广才;董学 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 尚伟净 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了数字曝光方法、电子元器件基板及其制备方法，该数字曝光方法包括：提供由多个图案单元构成的目标图案，每个所述图案单元具有目标曝光剂量；确定每个所述图案单元经过相同理论剂量的曝光后接收到的实际曝光剂量，得到第一实际曝光剂量分布图；根据所述第一实际曝光剂量分布图，将目标图案拆分为多个分解图案，每个分解图案的形状与所述目标图案的形状相同或者为所述目标图案的形状的一部分，且多个所述分解图案叠加得到所述目标图案；根据多个所述分解图案进行叠加曝光。该方法可以大大提高曝光均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 数字 曝光 方法 电子元器件 及其 制备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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