[发明专利]一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置有效

专利信息
申请号: 202110297842.8 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN113073296B 公开(公告)日: 2023-01-20
发明(设计)人: 张心凤;夏正卫;刘洋;陈玉梅;范洪跃 申请(专利权)人: 安徽纯源镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/56
代理公司: 合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) 34154 代理人: 胡发丁
地址: 230088 安徽省合肥市高*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种采用磁流体密封处理的用于真空镀膜的敲击装置,包括敲击杆,敲击杆的一端装配有敲击碳头,敲击杆的另一端装配在转动杆的一端,敲击杆和转动杆呈夹角状布置,转动杆转动安装,转动杆上设置有磁流体组件,转动杆与调节其进行转动的转动调节组件相连接。上述方案中,将敲击装置的传统油封结构更换为磁流体密封结构,可以解决敲击杆部位漏气的问题。
搜索关键词: 一种 采用 流体 密封 处理 用于 真空镀膜 敲击 装置
【主权项】:
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