[发明专利]含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法有效
| 申请号： | 202110316285.X | 申请日： | 2021-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN113064225B | 公开（公告）日： | 2023-07-14 |
| 发明（设计）人： | 蒯泽文;张礼勋;董畅;袁银潮;阮高梁 | 申请（专利权）人： | 浙江舜宇光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 刘娜 |
| 地址： | 315499 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种含氟化镁膜层的减反膜系及其制备方法。含氟化镁膜层的减反膜系包括：基底层；多个第一膜层；多个第二膜层，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率，多个第一膜层和多个第二膜层中的至少一个第二膜层交替叠置形成过渡层，过渡层与基底层连接，过渡层远离基底层的一侧为第一膜层；氟化镁膜层，氟化镁膜层连接在过渡层远离基底层的一侧，氟化镁膜层远离过渡层的一侧表面与多个第二膜层中的至少另一个第二膜层连接。本发明解决了现有技术中氟化镁膜层存在粘结不牢固的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 氟化 镁膜层 减反膜系 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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