[发明专利]一种带腔LTCC基板的研磨抛光方法在审
| 申请号： | 202110321658.2 | 申请日： | 2021-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN113021172A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 刘晓兰;梁广华;周拥华;段龙帆;徐亚新;卢会湘;付会鹏 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第五十四研究所 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 河北东尚律师事务所 13124 | 代理人： | 王文庆 |
| 地址： | 050081 河北省石家庄*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种带腔LTCC基板的研磨抛光方法，涉及LTCC基板制造技术领域。该方法包括研磨前腔体填充嵌件、基板研磨、基板抛光、嵌件去除及基板清洗等工艺步骤。本发明中带腔LTCC基板研磨抛光前先用热固胶或光固胶等有机材料进行腔体填充，其制备工艺简单，可以适配任何深度的腔体，避免了研磨抛光过程中的腔体崩边、裂片等缺陷，同时对腔体内部电路起到保护作用，提高了成品率，实现了LTCC基板的高平整性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ltcc 研磨 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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