[发明专利]一种用于等离子去胶机机台的密封圈在审
| 申请号： | 202110330213.0 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN113123710A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 唐在峰;昂开渠;许进 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | E06B7/16 | 分类号： | E06B7/16 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于等离子去胶机机台的密封圈，T型密封圈；用于镶嵌T型密封圈的槽位；T型密封圈的顶部为T型的宽部，底部为T型的窄部；T型密封圈的宽部嵌于槽位的底部；与槽位开口部、T型密封圈底部紧贴的磁门。本发明的T型密封圈，其接触磁门的密封圈面相对于密封圈槽面积小。当打开磁门时，密封圈受到大气压力被紧紧压在密封圈槽位内。可以避免密封圈拉出的风险，没有产品因为密封失效而破片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 等离子 去胶机 机台 密封圈 | ||
【主权项】：
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