[发明专利]一种二维电容层析成像的图像重建方法在审

专利信息
申请号: 202110356534.8 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN113012253A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 李明禹;王莉莉;陈德运 申请(专利权)人: 哈尔滨理工大学
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00
代理公司: 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 代理人: 马雯
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明属于过程性层析成像领域,尤其是一种二维电容层析成像的图像重建方法,针对现有的ECT技术当前仍然存在很多难点,比如ECT系统的非线性和逆问题求解,体现在图像重建上就是其成像精度不高、与原流型不符的问题,现提出如下方案,其包括以下步骤:S1、通过电容传感器阵列得到测量数据;S2、对测量数据进行预处理;S3、确定截断值;S4、对构造出来的Hankel矩阵进行奇异值分解;S5、对构造出来的矩阵进行反对角线取平均值,S6、得到去噪后的矩阵;S7、引入EIV模型;S8、得到重建图像。本发明的有益效果是:可以最大程度的保留数据的特征,提高算法的重建精度,并且去除多余噪声,使得算法更加接近真实值。
搜索关键词: 一种 二维 电容 层析 成像 图像 重建 方法
【主权项】:
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