[发明专利]光电传感器及其形成方法、电子设备在审

专利信息
申请号: 202110357931.7 申请日: 2021-04-01
公开(公告)号: CN115188777A 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 任惠;张大明;王志高 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/148
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 高静
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种光电传感器及其形成方法、电子设备,所述光电传感器包括:第一基底,具有第一表面;所述第一基底包括像素区,所述像素区包括多个阵列排布的子像素区;陷光槽,位于所述第一表面的所述子像素区中;隔光结构,贯穿于相邻所述子像素区之间的部分厚度的第一基底中。本发明实施例将所述陷光槽和隔光结构整合在所述光电传感器中,有利于防止相邻像素之间发生光学串扰、提高像素区的光学透过率,提升了光电传感器的性能。
搜索关键词: 光电 传感器 及其 形成 方法 电子设备
【主权项】:
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