[发明专利]一种用于芯片的研磨液及其制备方法在审
| 申请号： | 202110386931.X | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113088253A | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 武楠 | 申请（专利权）人： | 武楠 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 710002 陕西省西安*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于芯片的研磨液，包括研磨粉30‑40份、脱离子水50‑60份、润滑剂20‑30份、积压剂5‑15份、非离子表面活性剂10‑20份、防霉防腐剂5‑8份、分散剂10‑20份、螯合剂10‑20份、光亮剂3‑5份、悬浮稳定剂5‑15份。本发明能大幅度提高研磨速率，也具有优异的润滑积压性、冷却性、清洗性和防锈性，对提高生产效率、加工工件表面光滑度、沙粒消耗降低、增加寿命等方面均有优异的效果，并且具备优良的悬浮性，短时间内不会产生沉淀、絮凝、分层等现象，使用性能更强，其次，一方面减少了装载研磨液需要大量的容器，解决运输困难现象，提高运输效率，另一方面也避免各个试剂因长时间混合在一起产生过度反应现象，增加研磨液的保质期限，更加利于储存。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 芯片 研磨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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