[发明专利]曝光设备和制造显示装置的方法在审
| 申请号： | 202110405189.2 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113534613A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 任星淳;金钟奎;朴庭玄;宋升勇;李德重;李从元 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司;浦项工科大学校产学协力团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;冯志云 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种曝光设备和制造显示装置的方法，所述曝光设备包括：光源单元，所述光源单元提供用于曝光的光并且包括以矩阵形式布置的微发光二极管；基底传送单元，所述基底传送单元传送目标基底；以及控制单元，所述控制单元控制所述光源单元和所述基底传送单元中的至少一个。所述控制单元将坐标或者地址分配给每个微发光二极管，并且基于所述坐标或者所述地址根据预设图案单独控制每个微发光二极管的光量。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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