[发明专利]精细金属掩模版及掩模装置有效
| 申请号： | 202110405284.2 | 申请日： | 2021-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN113088879B | 公开（公告）日： | 2023-01-20 |
| 发明（设计）人： | 吴建鹏;梅菊;李剑波;丁文彪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 张筱宁;宋海斌 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了一种精细金属掩模板及掩模装置。在本申请实施例提供的精细金属掩模板中，包括图案区域和位于图案区域外围的辅助区，图案区域包括在平行于精细金属掩模版的第一方向上交替排列的第一子图案区域和第二子图案区域，由于第一子图案区域的两侧均设置有第一凹形区，第一凹形区将图案区域的至少部分分隔形成若干相互分离的子部分，通过第一凹形区释放精细金属掩模板的应力，能够有效降低精细金属掩模板中积聚的应力，从而能够降低精细金属掩模版中出现的褶皱的幅值程度，进而能够保障精细金属掩模版的平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 精细 金属 模版 装置 | ||
【主权项】：
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