[发明专利]一种外延基座有效
| 申请号： | 202110413089.4 | 申请日： | 2021-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN113279055B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 俞登永;曹共柏;林志鑫;潘帅 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C30B25/14;C30B29/06;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京磐华捷成知识产权代理有限公司 11851 | 代理人： | 谢栒 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区中国（*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种外延基座，包括：进气口和出气口，所述进气口的延伸方向与所述出气口的延伸方向相交；边缘侧墙，所述进气口的延伸方向与所述出气口的延伸方向之间的夹角对应的边缘侧墙为所述边缘侧墙的第一部分，所述边缘侧墙的其余部分为所述边缘侧墙的第二部分；其中，所述边缘侧墙的第一部分或所述边缘侧墙的第二部分上设置有气流扰动机构，以使所述边缘侧墙的第一部分和所述边缘侧墙的第二部分对气流的扰动不同。根据本发明提供的外延基座，通过设置气流扰动机构，从而使所述边缘侧墙的第一部分和所述边缘侧墙的第二部分对气流的扰动不同，改善气流的均匀性，进而提高形成的外延层的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 外延 基座 | ||
【主权项】：
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