[发明专利]一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置在审

专利信息
申请号: 202110417858.8 申请日: 2021-04-19
公开(公告)号: CN113104834A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 李同权;汪炜;汪云龙 申请(专利权)人: 苏州力碳新能源发展有限公司
主分类号: C01B32/05 分类号: C01B32/05
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 林杨
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置,包括控制箱,所述控制箱的一侧设置有输料箱,所述控制箱的上端定位连接有定位支脚,所述定位支脚的上端定位安装有分层式密封沉积箱与滑阀泵,所述分层式密封沉积箱的上端安装有加热箱。本发明所述的一种回转式CVD碳材料表面均匀沉积装置,设有回转式分层过滤装置、可拆式温控箱与分层式密封沉积箱,能够方便对料体中的杂质进行过滤清除,增加化学气相沉积的效果,输送更为快速,可以方便对加热温度进行控制,可以定位进行拆装更换,保证装置正常使用,燃烧更加稳定,还可以方便更好的进行沉积操作,采用多层,沉积效果好,密封性能优异,带来更好的使用前景。
搜索关键词: 一种 回转 cvd 材料 表面 均匀 沉积 装置
【主权项】:
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