[发明专利]一种用于匀光的自适应光束整形装置在审
| 申请号： | 202110418354.8 | 申请日： | 2021-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN113189804A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 黄大杰;范薇;程贺;杜彤耀;邢智博 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于匀光的自适应光束整形装置，该装置的构成包括半波片、起偏器、光敏响应器、检偏器。主要是入射光照射光敏响应器的光导层后，由于光导层电阻随照射的光敏光光强增大而减小，并且与液晶材料呈串联结构、两者总电压保持不变，液晶材料呈现与入射光强度分布对应的折射率变化，从而使入射光的偏振态分布也呈现相应的变化。当通过检偏器后，出射光的强度分布便呈现均匀分布。本发明具有使用简单、无需编程控制等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 自适应 光束 整形 装置 | ||
【主权项】：
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