[发明专利]一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110418892.7 申请日: 2021-04-19
公开(公告)号: CN113050204B 公开(公告)日: 2023-09-29
发明(设计)人: 宋梦亚;郭康;李多辉;谷新;张锋;王美丽 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B30/27
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 曹娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及3D显示技术领域,具体涉及一种微透镜阵列基板、3D显示装置及其制备方法。该微透镜阵列基板包括:基板,所述基板上间隔设置有多个透镜,每相邻两个所述透镜之间均设有纳米吸收体阵列结构,每个纳米吸收体均包括:从下至上依次层叠设置的金属基底层、介质中间层以及金属纳米结构层,所述金属纳米结构层由耐高温材料制成;综上所述,本申请采用耐高温的纳米吸收体阵列结构作为遮光层,可以有效避免在进行透镜制备过程中出现遮光层熔化的现象,保证透镜阵列的透过率,提高显示效果。
搜索关键词: 一种 透镜 阵列 显示装置 及其 制备 方法
【主权项】:
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