[发明专利]用于半导体连续性方程的流线迎风有限元方法及系统有效
申请号: | 202110427767.2 | 申请日: | 2021-04-21 |
公开(公告)号: | CN113128154B | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 张鹏;王大伟;朱家和;赵文生;王晶 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | G06F30/367 | 分类号: | G06F30/367;G06F30/27 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 周希良 |
地址: | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种用于半导体连续性方程的混合流线迎风有限元方法及系统,其方法包括如下步骤:S1、几何模型的空间离散化;S2、网格单元的构造及应用;S3、利用Nedelec边缘基空间将电流密度模型在网格单元相邻段的中心进行插值得到电流密度;S4、单元矩阵方程的构造;S5、通过对求解域中的所有网格单元进行遍历,得到系统矩阵方程。相较于FBSG方法,本发明对空间网格质量要求更低,从而使得收敛性更好;相较于SUPG方法,本发明在迎风函数的多维应用方面进行了优化;相较于FVFEM‑SG方法,本发明在定义人工扩散系数方面更具灵活性。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体 连续性 方程 流线 迎风 有限元 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110427767.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:全自动极耳切割机
- 下一篇:一种黄酒曲及该酒生产的方法