[发明专利]一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板在审

专利信息
申请号: 202110429860.7 申请日: 2021-04-21
公开(公告)号: CN113140577A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 卓恩宗;都桂卿;朱虹玲;郑浩旋 申请(专利权)人: 滁州惠科光电科技有限公司;惠科股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1335
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 高星
地址: 239000 安徽省滁*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及液晶显示的技术领域,提供了一种阵列基板制备方法、阵列基板及显示面板,其中阵列基板制备方法包括:在第一基板上设置第一金属层;在第一金属层上设置半导体层;在半导体层上设置第二金属层;在第二金属层上设置第一保护层;在第一保护层上设置色阻层;对色阻层进行等离子体处理;在色阻层上设置第二保护层;通过上述技术方案,在设置色阻层后,对色阻层进行离子体处理,有利于将色阻层存放于第一保护层上,避免气泡的产生;同时色阻层置于第一保护层和第二保护层之间,提高了色阻层的可靠性,因此可以减小色阻层的厚度,同样可以减小气泡的产生。
搜索关键词: 一种 阵列 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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