[发明专利]一种微透镜结构及其制备方法、显示器件在审

专利信息
申请号: 202110443688.0 申请日: 2021-04-23
公开(公告)号: CN113178535A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 郭康;宋梦亚;李多辉;谷新 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;G02F1/1335;G03F7/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种微透镜结构及其制备方法、显示器件,所述微透镜结构包括至少一个微透镜,所述微透镜结构的制备方法包括:根据待制备的微透镜的目标拱高确定压印工艺参数,所述压印工艺参数与压印时微透镜模板的填充程度相关;在基板上涂覆压印胶材,使用微透镜模板基于所述压印工艺参数进行纳米压印,形成所述微透镜结构。本公开实施例提供的方案,通过改变压印工艺参数改变填充程度,获得不同拱高的微透镜,实现方便,成本低,产品开发周期短。
搜索关键词: 一种 透镜 结构 及其 制备 方法 显示 器件
【主权项】:
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