[发明专利]一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶有效
| 申请号： | 202110450572.X | 申请日： | 2021-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN113174576B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | 朱国;刘文玉 | 申请（专利权）人： | 湖南城市学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 长沙惟盛赟鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 43228 | 代理人： | 滕澧阳 |
| 地址： | 413049 *** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁极回转的圆形平面磁控溅射靶，包括：靶基座，其为中空的圆柱形结构；磁极回转系统，其设置靶基座上，并与靶基座可活动的连接；所述磁极回转系统为可旋转的结构；磁极，其设置在磁极回转系统上，并被磁极回转系统带动旋转。本发明将多个磁极沿磁极回转系统的径向均布放置，使得磁感应线沿靶材周向排布，并且本发明中磁极可以回转，从而防止靶材表面形成明显的刻蚀沟槽，提高了靶材的利用率与溅射速率，从而解决现有技术中的不足。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁极 回转 圆形 平面 磁控溅射 | ||
【主权项】：
暂无信息
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