[发明专利]一种干膜抗蚀剂组合物在审
申请号: | 202110460509.4 | 申请日: | 2021-04-27 |
公开(公告)号: | CN113176706A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 袁丽;朱高华;吴佳丰;李伟杰;钱伟强 | 申请(专利权)人: | 浙江福斯特新材料研究院有限公司 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 裴金华 |
地址: | 311305 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于印刷电路板制造技术领域,具体公开了一种干膜抗蚀剂组合物,包括以下重量份的原料:碱溶性树脂45~65份,光聚合单体35~50份,光引发剂0.1~5.0份,添加剂1.0‑5.0份;所述光聚合单体包括极性基团改性、EO/PO修饰的(甲基)丙烯酸酯化合物,所述极性基团为磷酸酯类、异氰尿酸类、1,3,5‑三嗪类、嘧啶类或者喹唑啉类基团。本发明在光聚合单体中引入的极性基团改性、EO/PO修饰的(甲基)丙烯酸酯化合物,与干膜抗蚀剂体系相容性好,能有效提高干膜抗蚀剂附着力,并且不会对干膜抗蚀剂的显影性和柔韧性造成不利影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 干膜抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】:
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