[发明专利]掩模板及掩模板使用方法在审
| 申请号： | 202110478312.3 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113189839A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 莫超德;张博 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 李健 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例公开了一种掩模板及掩模板使用方法。掩模板包括第一曝光区和第二曝光区，所述第二曝光区位于所述第一曝光区的任意侧；所述第一曝光区设置有用于形成第一功能膜层的第一预设图案，所述第二曝光区设置有用于形成第二功能膜层的第二预设图案，其中，所述第一曝光区与所述第二曝光区在不同时间段工作。通过在同一掩模板上设计不同功能膜层对应的曝光区，采用同一掩模板即可以完成不同功能膜层的图案化制作，可以解决现有的掩模板利用效率低、掩模板使用数量多、研发和生产成本高的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 使用方法 | ||
【主权项】：
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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