[发明专利]一种无掩膜曝光镜头有效
| 申请号： | 202110492486.5 | 申请日： | 2021-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN113156779B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 桂立 | 申请（专利权）人： | 苏州赛源光学科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 葛燕婷 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无掩膜曝光镜头，包括DMD芯片组件、匀光棒、准直透镜组、汇聚透镜、前透镜组、光阑以及后透镜组，匀光棒、准直透镜组、汇聚透镜以及DMD芯片组件形成照明模组，匀光棒出光面作为照明模组的物面，DMD芯片组件作为照明模组的像面；DMD芯片组件、前透镜组、光阑以及后透镜组形成投影模组，DMD芯片组件作为投影模组的物面，无掩膜曝光镜头的曝光面作为投影模组的像面，通过上述设计，本发明无掩膜曝光镜头曝光面的照度均匀性大于98％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩膜 曝光 镜头 | ||
【主权项】：
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