[发明专利]纳米压印离膜机构在审
申请号: | 202110494511.3 | 申请日: | 2021-05-07 |
公开(公告)号: | CN113515009A | 公开(公告)日: | 2021-10-19 |
发明(设计)人: | 杨海涛;饶轶;赵东峰;吾晓;杜凯凯 | 申请(专利权)人: | 歌尔股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 袁文婷;张娓娓 |
地址: | 261031 山东省潍*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种纳米压印离膜机构,包括可弯转式支撑框架,其中,通过预先的压印工序覆盖在承载片上的待分离软膜固定在所述可弯转式支撑框架内;并且,所述待分离软膜的任意位置可进行任意角度的弯折。利用上述发明能够有效地解决现有的离膜机构无法适用所有角度的光栅的问题。 | ||
搜索关键词: | 纳米 压印 机构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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