[发明专利]OLED像素形成用掩模、掩模支撑模板及框架一体型掩模在审

专利信息
申请号: 202110500020.5 申请日: 2021-05-08
公开(公告)号: CN113725389A 公开(公告)日: 2021-11-30
发明(设计)人: 李炳一;金奉辰 申请(专利权)人: 悟勞茂材料公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/00;H01L27/32
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及OLED像素形成用掩模、掩模支撑模板及框架一体型掩模。根据本发明的掩模为形成有多个掩模图案且用于形成OLED像素的掩模,掩模图案包括上部的第一掩模图案与下部的第二掩模图案,第一掩模图案的厚度大于第二掩模图案的厚度,第一掩模图案的两侧面具有凹状的曲率,第一掩模图案的上部宽度大于第二掩模图案的下部宽度,第一掩模图案的下部宽度小于第二掩模图案的下部宽度。
搜索关键词: oled 像素 形成 用掩模 支撑 模板 框架 体型
【主权项】:
暂无信息
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