[发明专利]光刻胶剂烘烤设备在审
申请号: | 202110528811.9 | 申请日: | 2021-05-14 |
公开(公告)号: | CN113703293A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 陈柏宏;陈裕凯 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/38 | 分类号: | G03F7/38;G03F7/40 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 聂慧荃;闫华 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本公开实施例提供一种光刻胶剂烘烤设备。光刻胶剂烘烤设备包括烘烤室、烤盘、排气管路以及盖板。烘烤室在其侧壁上具有排气口。烤盘设置于烘烤室中,并且配置用以支撑晶片及加热在晶片上方的光刻胶剂材料。排气管连接到排气口,并且配置用以排出烘烤室内部的气体。盖板设置于烤盘上方且位于烤盘和排气口之间。盖板具有多个排气孔以允许空气流过。其中,较远离排气口的排气孔的尺寸大于较靠近排气口的排气孔的尺寸。 | ||
搜索关键词: | 光刻 烘烤 设备 | ||
【主权项】:
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