[发明专利]一种高电流密度下阴极铜电解槽在审
申请号: | 202110531851.9 | 申请日: | 2021-05-17 |
公开(公告)号: | CN113106500A | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 孟飞;华强;李世杰;冯浩;陈晓军;张爱文;陈奋飞;马英;吉恒义;白玲;周德财;李生元;苏元斌;赵浪 | 申请(专利权)人: | 新疆五鑫铜业有限责任公司 |
主分类号: | C25C7/00 | 分类号: | C25C7/00;C25C7/06;C25C1/12 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 831500 新疆维吾尔自治区昌吉回族自治州昌吉*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | 本发明公开了一种高电流密度下阴极铜电解槽,包括:电解槽体、阳极板、阴极板和中转壳,所述电解槽体顶部两侧外壁通过卡接固定连接有卡板,所述卡板之间位于电解槽体内部通过卡接固定连接有阳极板,所述卡板之间位于阳极板之间通过卡接固定连接有阴极板,本发明一部分电解液通过中转壳上的喷头喷出,一部分通过连接管进入到上层的中转壳中,降低了电极表面的扩散层厚度,电极表面的添加剂分布更加均匀,电解槽中铜离子浓度更加均匀,电解槽中温度分布更佳,同时使得极限电流密度的提高,使铜电解工艺能在较高的电流密度条件下运行,并且可取得较高的电流效率及高质量的阴极铜。 | ||
搜索关键词: | 一种 电流密度 阴极 电解槽 | ||
【主权项】:
暂无信息
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