[发明专利]一种用于AMOLED的ELVDD结构有效
申请号: | 202110537263.6 | 申请日: | 2021-05-18 |
公开(公告)号: | CN112968606B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 曹灿华 | 申请(专利权)人: | 上海南芯半导体科技有限公司 |
主分类号: | H02M3/158 | 分类号: | H02M3/158;H02M1/14;H02M1/088 |
代理公司: | 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 葛启函 |
地址: | 200120 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于电源技术领域,具体的说是涉及一种用于AMOLED的ELVDD优化结构。本发明主要在传统结构的基础上,增加进入DownMode同步CLK电路和增加DownMode快速PWM控制结构。实现减小DC‑DC从BOOST模式切换到DownMode模式时所产生的纹波Ripple,明显优化了电流偏离负载电流的幅度,也即优化了输出电压Vout(ELVDD)的Ripple,从而很好的解决了手机可能出现闪屏的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 amoled elvdd 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海南芯半导体科技有限公司,未经上海南芯半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110537263.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。