[发明专利]掩膜框架有效
| 申请号： | 202110540596.4 | 申请日： | 2021-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN113278917B | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 臧公正;李文星;李伟丽;韩冰;张继帅;沈亚南 | 申请（专利权）人： | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H10K71/16;H10K59/10 |
| 代理公司： | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人： | 成丽杰 |
| 地址： | 230037 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明实施方式涉及显示技术领域，公开了一种掩膜框架，包括：框架本体，所述框架本体包括蒸镀区和位于蒸镀区四周的框臂；至少一条复合支撑条，所述复合支撑条的两端分别固定于相互平行的两个框臂上，每个所述复合支撑条包括：磁性支撑条、以及位于所述磁性支撑条远离所述框臂一侧的非磁性支撑条；所述非磁性支撑条在平行于所述蒸镀区的平面上的正投影完全覆盖所述磁性支撑条在平行于所述蒸镀区的平面上的正投影。利用本实施例中的掩膜框架能够很大程度上提高蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 | ||
【主权项】：
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