[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法在审
| 申请号： | 202110549216.3 | 申请日： | 2021-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN113721427A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 八讲学 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。在宽带照明光中抑制转印性能的降低。一种使用包括第1波长范围和第2波长范围的波长范围的光曝光基板的曝光装置，具有用光照明掩模的照明光学系统和将掩模的图案的像投影到基板的投影光学系统，照明光学系统以在其瞳面中以其光轴为中心使作为至少包括第1波长范围的光的光强度分布的第1光强度分布的至少一部分比作为至少包括第2波长范围的光的光强度分布的第2光强度分布更靠内侧的方式形成包括第1光强度分布和第2光强度分布的光强度分布，满足第1波长范围包括比第2波长范围的最短的照明波长更短的波长、或者第2波长范围包括比第1波长范围的最长的照明波长更长的波长中的至少一方。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 物品 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110549216.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
