[发明专利]工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法有效

专利信息
申请号: 202110574096.2 申请日: 2021-05-25
公开(公告)号: CN113325914B 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 周杨润;余凯;李思臻 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: G05F1/567 分类号: G05F1/567
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 刘俊
地址: 510090 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法,包括分别计算MOS晶体管在无衬底偏置效应下和有衬底偏置效应下的阈值电压,将阈值电压在SS工艺角到FF工艺角的变化拟合为对应的线性方程;计算晶体管间产生的CTAT电压并将CTAT电压与由不同MOS晶体管的宽长比与热电压的乘积产生的PTAT电压相加得到一个与温度系数无关的电压;结合线性方程对得到的与温度系数无关的电压进行分析,实现对工艺偏差影响的消除。本发明提出一种工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法,通过利用衬底偏置效应补偿工艺偏差技术,设计出不使用三极管的CMOS电压基准源,实现低电压低功耗工作。
搜索关键词: 工艺 补偿 cmos 电压 基准 及其 设计 方法
【主权项】:
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