[发明专利]工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法有效
申请号: | 202110574096.2 | 申请日: | 2021-05-25 |
公开(公告)号: | CN113325914B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 周杨润;余凯;李思臻 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | G05F1/567 | 分类号: | G05F1/567 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 刘俊 |
地址: | 510090 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法,包括分别计算MOS晶体管在无衬底偏置效应下和有衬底偏置效应下的阈值电压,将阈值电压在SS工艺角到FF工艺角的变化拟合为对应的线性方程;计算晶体管间产生的CTAT电压并将CTAT电压与由不同MOS晶体管的宽长比与热电压的乘积产生的PTAT电压相加得到一个与温度系数无关的电压;结合线性方程对得到的与温度系数无关的电压进行分析,实现对工艺偏差影响的消除。本发明提出一种工艺自补偿CMOS电压基准源及其设计方法,通过利用衬底偏置效应补偿工艺偏差技术,设计出不使用三极管的CMOS电压基准源,实现低电压低功耗工作。 | ||
搜索关键词: | 工艺 补偿 cmos 电压 基准 及其 设计 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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