[发明专利]感光阵列及成像设备在审

专利信息
申请号: 202110601254.9 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113363271A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 曹开玮;孙鹏 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/148
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 田婷
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种感光阵列以及一种包括所述感光阵列的成像设备。所述感光阵列的每个像素区均对应于一个衬底引出区并与对应的衬底引出区的衬底连通,所述衬底引出区用于为对应的像素区的衬底提供电压施加位置,多列像素区包括电荷读取区相对而感光区相背离的两相邻列像素区,所述两相邻列像素区中处于两相邻行的四个像素区包围着对应的衬底引出区,该设置便于向各像素区的衬底施加电压进而便于等电位操作,并且,设置于衬底中的全隔离体在衬底内横向延伸以分隔相邻的像素区,同时留出间隙使每个像素区与对应的衬底引出区的衬底连通,因而不同像素区的衬底之间隔离效果较佳,可以降低不同像素之间的串扰。
搜索关键词: 感光 阵列 成像 设备
【主权项】:
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