[发明专利]一种掩膜版清洗装置及其清洗方法有效
申请号: | 202110604114.7 | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113351583B | 公开(公告)日: | 2023-03-10 |
发明(设计)人: | 钱超;杨波 | 申请(专利权)人: | 江苏高光半导体材料有限公司 |
主分类号: | B08B7/04 | 分类号: | B08B7/04;B08B7/00;B08B7/02;B08B3/02;B08B3/04;B08B3/08;B08B13/00;F26B21/00;H10K71/16;H10K71/00 |
代理公司: | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人: | 肖念 |
地址: | 212400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种掩膜版清洗装置,包括挂载架,挂载架内设有离心组件,挂载架的外侧套设有清洗组件,挂载架的两端安装有抵板,离心组件包括旋转轴,旋转轴的两端分别与两个抵板转动连接,其中一个抵板上安装有驱动电机,驱动电机与旋转轴驱动连接,旋转轴上设有移动块,移动块上安装有卡合机构,通过设置的离心组件和环筒的配合,以达到利用旋转来促使掩膜版均匀多角度的受到水流的冲洗效果,并能实现自动化自清洗效果,降低人力成本,本发明通过设置的环筒内的多个区间,以达到利用层层递进的方式来进行对掩膜版的清洗,从而使得其上附着的杂质可以更好的脱离其表面,在清洗完毕后进行超声震荡烘干处理,防止水渍未干导致重新附着新的杂质。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 清洗 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
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