[发明专利]一种吸盘组件、曝光装置及光刻系统

摘要

本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种吸盘组件、曝光装置及光刻系统。吸盘组件包括：吸盘，其基底吸附面具有若干个与吸盘同心设置的基底吸附区，每个基底吸附区均包括主吸附区，至少最外侧的基底吸附区包括位于主吸附区外侧的边缘吸附区；每个主吸附区的边缘均围设有第一密封件，边缘吸附区的外边缘环绕设置有第二密封件，第一密封件和第二密封件的下端密封嵌设于吸盘，第一密封件和第二密封件的上端能够弹性凸出基底吸附面，第一密封件能够凸出基底吸附面的高度大于第二密封件能够凸出基底吸附面的高度。本发明公开的吸盘组件、曝光装置及光刻系统，能够提高对翘曲基底的吸附能力和吸附效果。