[发明专利]一种电沉积铜箔后处理装置有效
申请号: | 202110612960.3 | 申请日: | 2021-06-02 |
公开(公告)号: | CN113355704B | 公开(公告)日: | 2022-03-25 |
发明(设计)人: | 古明煌;谢基贤;罗志宏;李永明;郭志航;谢伟成 | 申请(专利权)人: | 广东嘉元科技股份有限公司 |
主分类号: | C25D1/04 | 分类号: | C25D1/04;C25D21/18;B08B1/00;B08B1/02;B08B3/02;F26B5/16;F26B13/00;F26B21/00 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 张雪 |
地址: | 514759 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种电沉积铜箔后处理装置,包括安装台,安装台上固定设置有电解槽,电解槽底部设置有阳极板,电解槽内轴接有阴极辊,安装台在阴极辊的上方固定连接有安装架,安装架上设置有铜箔清洗机构,铜箔清洗机构的一侧设置有烘干机构,烘干机构的一侧设置有收卷机构。本发明通过挤液辊使附着在铜箔表面的硫酸铜溶液重新流入阳极槽,实现了硫酸铜溶液的回收再利用;并且通过多组毛刷喷水辊和真空吸附辊对铜箔上下表面进行清洗,并通过烘干箱体对铜箔上下表面进行烘干,彻底地清除了附着在铜箔表面的硫酸铜溶液。 | ||
搜索关键词: | 一种 沉积 铜箔 处理 装置 | ||
【主权项】:
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