[发明专利]一种高精度试样研磨和抛光装置在审

专利信息
申请号: 202110633110.1 申请日: 2021-06-07
公开(公告)号: CN113370072A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 王艳虎;苏传出;李强;陈希章;谢尔盖·科诺瓦洛夫;黄磊;迪夫·弗拉迪斯拉夫;罗曼诺夫·丹尼斯 申请(专利权)人: 温州竞合智造科技有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B29/02
代理公司: 温州名创知识产权代理有限公司 33258 代理人: 程嘉炜
地址: 325000 浙江省温州市瓯海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种高精度试样研磨和抛光装置,包括底座以及设置于底座上的操作台和研磨池,所述操作台包括升降机构,所述升降机构的移动端连接有定位支架,所述定位支架上安装有用于夹固试样的夹紧机构;所述研磨池设置在夹紧机构下方,研磨池内设有研磨机构,所述研磨机构包括驱动电机以及研磨盘,所述研磨盘设置在研磨池中,所述驱动电机设置在底座底部,驱动电机的电机轴通过联轴器连接有联动轴,所述联动轴贯穿底座用于研磨盘联动连接。本发明结构简单,操作方便,成本较低,可靠性高,能够保证试样磨面的平面度和均匀性,可满足不同尺寸的微试样和大试样研磨或抛光的要求,并且具有精度高和效率高的优点。
搜索关键词: 一种 高精度 试样 研磨 抛光 装置
【主权项】:
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