[发明专利]喜树碱类高分子衍生物的药物制剂在审
| 申请号： | 202110647842.6 | 申请日： | 2015-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN113304278A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 藤田真也;青木进 | 申请（专利权）人： | 日本化药株式会社 |
| 主分类号： | A61K47/64 | 分类号： | A61K47/64;A61K47/60;A61K31/4745;A61P35/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供一种药物制剂组合物，其为含有使在水溶液中缔合而具有纳米颗粒形成性的喜树碱衍生物结合于高分子载体而成的喜树碱类高分子衍生物的药物制剂，其制剂稳定性提高。特别是，本发明的课题在于提供维持了作为重要因素的纳米颗粒形成性、并且保存稳定性优异的药物制剂。一种药物制剂，其含有聚乙二醇链段和包含结合有喜树碱衍生物的谷氨酸单元的聚谷氨酸链段连结而成的嵌段共聚物，上述药物制剂在水溶液中形成缔合物，在将上述药物制剂制成以上述喜树碱衍生物含量浓度计为1mg/mL的水溶液时，该水溶液的pH为2.4～7.0，在遮光下于40℃保存1周后，上述药物制剂的该缔合物的形成能力的变化率为50％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 喜树碱 高分子 衍生物 药物制剂 | ||
【主权项】：
暂无信息
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