[发明专利]三维存储单元阵列、半导体器件及其制造方法在审
申请号: | 202110649105.X | 申请日: | 2021-06-10 |
公开(公告)号: | CN113451324A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 杨子庆;孙宏彰;赖升志;江昱维;蒋国璋 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/11565 | 分类号: | H01L27/11565;H01L27/11568;H01L27/11582;H01L27/11587;H01L27/1159;H01L27/11597 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 顾伯兴 |
地址: | 中国台湾新竹科*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种三维存储单元阵列包括垂直堆叠的多个第一导电线、垂直堆叠的多个第二导电线、及第一和多个第二台阶梯段。多个第一导电线及多个第二导电线沿着第一方向延伸。多个第二导电线设置在沿着第二方向距多个第一导电线一距离处。第一方向与第二方向正交。沿着第一方向,第一梯段设置在多个第一导电线的相对的端处且第二梯段设置在多个第二导电线的相对的端处。第一梯段及第二梯段包括沿着第一方向交替设置的多个着陆焊盘与多个连接线。沿着第二方向,多个着陆焊盘比多个连接线宽。沿着第二方向,第一梯段的多个着陆焊盘面对第二梯段的多个连接线且第二梯段的多个着陆焊盘面对第一梯段的多个连接线。 | ||
搜索关键词: | 三维 存储 单元 阵列 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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