[发明专利]掩膜组件及其制作方法在审
| 申请号： | 202110667213.X | 申请日： | 2021-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN113403575A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 齐英旭;卓林海;王亚;于上智;田斌;郭宏伟 | 申请（专利权）人： | 云谷（固安）科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 袁榕 |
| 地址： | 065500 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜组件及其制作方法，掩膜组件包括：掩膜框架；以及掩膜网面，掩膜网面通过多个连接点连接于掩膜框架；其中，掩膜网面包括：网面本体，具有位于网面本体的中心位置的蒸镀区域及围绕蒸镀区域设置的连接区域，网面本体通过连接区域与掩膜框架连接；多个阻挡部，位于连接区域内，多个阻挡部彼此间隔地布设于网面本体的一侧，且阻挡部具有用于容纳连接点的阻挡槽。上述掩膜组件，连接网面本体和掩膜框架的连接点位于阻挡部形成的阻挡槽内，布设于网面本体的阻挡部显著增加了连接点周围的受力面积，从而减小了单位面积所受到的拉力值，进而增加了连接点处产生的裂纹的爬坡难度，延长了掩膜组件的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 组件 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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