[发明专利]提高外延片均匀度的外延托盘及其制备方法在审
| 申请号： | 202110670305.3 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113622020A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 从颖;姚振;董彬忠;梅劲 | 申请（专利权）人： | 华灿光电（浙江）有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12;C23C16/458 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 吕耀萍 |
| 地址： | 322000 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本公开公开了一种提高外延片均匀度的外延托盘及其制备方法，属于外延生长技术领域。圆形凹槽的底面均具有调整凸起与调整槽，调整凸起与调整槽的大部分都位于圆形凹槽较为靠近外延托盘的边缘的部分。调整凸起的传热慢，调整凸起对应的衬底的温度相对较低一点。调整凸起与调整槽的位置配合可以减小气流对调整凸起与调整槽的冲击影响，调整槽本身可以增大圆形凹槽的底面与衬底之间的距离，以增大衬底与热源之间的距离，降低衬底高温区域的温度，以提高衬底的表面的温度均匀性。衬底上不同区域的温度分布较为均匀，则在衬底上生长的外延材料较为均匀，可以提高最终得到的外延片的出光均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 外延 均匀 托盘 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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