[发明专利]一种用于镀膜机的银靶喷溅装置有效
申请号: | 202110688669.4 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113445011B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 解华林 | 申请(专利权)人: | 湖南国创同芯科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/35 |
代理公司: | 长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) 43207 | 代理人: | 彭少波 |
地址: | 414000 湖南省岳阳市城*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公布了一种用于镀膜机的银靶喷溅装置,属于晶片镀膜领域,包括设备箱体,所述设备箱体内设置工作空间,所述工作空间内设置镀膜机构和转移机构;所述转移机构包括转动设置在所述工作空间内的转动部,所述转动部上固定设置若干个晶片夹具,所述晶片夹具上是待镀膜的晶片;通过设置转移机构,使晶片在进行镀膜时能够进行位置的切换,实现同时对更多的晶片进行镀膜加工,通过设置补正件,在进行镀膜的时候,能够将中间部分的银钯挡住,从而分散向晶片夹具的两端,使晶片夹具上的晶片镀膜时更加的均匀,并且通过在分隔部上设置滑道和刻度、卡座,使在调节补正件的上下高度的时候更加方便,也更加方便掌控调节的高度。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 镀膜 喷溅 装置 | ||
【主权项】:
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