[发明专利]制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件在审
| 申请号： | 202110689013.4 | 申请日： | 2021-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN113848680A | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 高田大树;须田广美 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 李鹏宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供制造透过型的光学元件的制造方法、曝光装置、物品制造方法以及透过型的光学元件。该制造方法的特征在于：具有在上述光学元件的表面形成防反射膜的第1工序和将在上述第1工序形成的上述防反射膜在上述防反射膜的厚度方向除去的第2工序，在上述第2工序中，将上述防反射膜在上述厚度方向除去，以便即使在上述防反射膜被除去的区域也残留有上述防反射膜的至少一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 透过 光学 元件 方法 曝光 装置 物品 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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