[发明专利]PECVD双舟系统及其碎片检测方法有效
申请号: | 202110689218.2 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113416946B | 公开(公告)日: | 2023-01-03 |
发明(设计)人: | 韩方虎;陈强利;韩明新;潘景伟;冯登文;尤晨曦 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/505;C23C16/458;G01R19/165 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 黎坚怡 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请公开了一种PECVD双舟系统及其碎片检测方法。PECVD双舟系统包括反应腔、第一石墨舟和第二石墨舟,反应腔两端分别设有进气口和出气口,第一石墨舟和第二石墨舟设于反应腔内且沿进气口至出气口的方向排列;碎片检测方法包括:对反应腔执行抽真空处理;使气体注入反应腔内,并使反应腔内的压力保持预定压力;在第一石墨舟上施加预定电压;获得第二石墨舟上的电信号,并判断电信号是否大于第一预定值;若是,则确定第一石墨舟和第二石墨舟之间存在碎片。本申请提供的PECVD双舟系统及其碎片检测方法,能够有效检测第一石墨舟和第二石墨舟之间是否存在碎片,从而防止石墨舟内的硅片及舟片产生白色粉尘。 | ||
搜索关键词: | pecvd 系统 及其 碎片 检测 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏微导纳米科技股份有限公司,未经江苏微导纳米科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110689218.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种日光能免充电智能门锁
- 下一篇:镀膜设备及其工作方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的