[发明专利]辐射结构在审
| 申请号： | 202110691657.7 | 申请日： | 2021-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN115513640A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 黄文宏 | 申请（专利权）人： | 日月光半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/22 | 分类号： | H01Q1/22;H01Q1/38;H01L23/66 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种辐射结构。辐射结构可以包括：第一导电层；第二导电层；阻挡层，设置在所述第一导电层和所述第二导电层之间。其中，所述阻挡层的厚度在0.3微米至3微米的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 结构 | ||
【主权项】：
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