[发明专利]三维存储器件和方法在审

专利信息
申请号: 202110695161.7 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113745238A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 杨柏峰;杨世海;贾汉中;王圣祯;林佑明 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/11587 分类号: H01L27/11587;H01L27/1159;H01L27/11597
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 在实施例中,一种器件包括:具有第一侧壁的第一介电层;具有第二侧壁的第二介电层;位于第一介电层和第二介电层之间的字线,该字线具有外侧壁和内侧壁,内侧壁被从外侧壁、第一侧壁和第二侧壁开槽;沿着字线的外侧壁、字线的内侧壁、第一介电层的第一侧壁和第二介电层的第二侧壁延伸的存储器层;以及沿着存储器层延伸的半导体层。本申请提供了三维存储器件和方法。
搜索关键词: 三维 存储 器件 方法
【主权项】:
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