[发明专利]基于菲林光刻工艺的透明天线制备方法及透明天线有效

专利信息
申请号: 202110702327.3 申请日: 2021-06-21
公开(公告)号: CN113437504B 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 胡承刚;程晋广;史浩飞;张恒;邵丽;周萌;王刚 申请(专利权)人: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H05K3/12
代理公司: 北京元本知识产权代理事务所(普通合伙) 11308 代理人: 黎昌莉
地址: 400714 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种基于菲林光刻工艺的透明天线制备方法及透明天线,该方法包括S1.低可视透明天线结构的设计;S2.将低可视透明天线结构图形出到菲林片上制作菲林掩膜版;S3.对透明导电膜和感光干膜进行预定尺寸的裁切以及前处理;S4.透明导电膜表面贴上感光干膜,将贴好感光干膜的导电薄膜曝光;S5.显影露出透明天线的结构图案;S6.通过刻蚀液刻蚀出透明天线的形状;S7.去除透明导电膜表面的感光干膜并清洗烘干,得到所需透明导电膜;S8.将得到的透明导电膜贴在透明板材上;S9.对透明板材进行裁切,得到所需透明天线,S10.将透明天线接上射频接头或射频线缆。本发明具有较高的加工精度,可拓展至大面积制备,制作出的天线外观不易被察觉,具备低可视特征。
搜索关键词: 基于 光刻 工艺 透明 天线 制备 方法
【主权项】:
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