[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀装置有效
申请号: | 202110704369.0 | 申请日: | 2021-06-24 |
公开(公告)号: | CN113388814B | 公开(公告)日: | 2023-09-12 |
发明(设计)人: | 李民国;毕德锋;罗书成;李成胜 | 申请(专利权)人: | 武汉天马微电子有限公司;武汉天马微电子有限公司上海分公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 张育英 |
地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明实施例提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀装置,涉及蒸镀技术领域,提高了蒸镀形成的薄膜质量。蒸镀坩埚包括:坩埚主体,包括用于形成容纳腔的坩埚底壁和坩埚侧壁;遮挡组件,包括至少两个挡板,至少两个挡板可拆卸地置于容纳腔内,挡板包括阻挡片,阻挡片具有通孔,在垂直于坩埚底壁所在平面的方向上,至少两个挡板的阻挡片之间具有间隔,且至少两个挡板中的至少部分通孔互不交叠;坩埚上盖,盖合于坩埚主体上,坩埚上盖具有坩埚口。 | ||
搜索关键词: | 坩埚 装置 | ||
【主权项】:
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