[发明专利]一种用于半导体超精细研磨专用垫在审

专利信息
申请号: 202110713842.1 申请日: 2021-06-26
公开(公告)号: CN113414706A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 田多胜 申请(专利权)人: 东莞市中微纳米科技有限公司
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22;B24B37/26;B24B37/10
代理公司: 东莞市永邦知识产权代理事务所(普通合伙) 44474 代理人: 毛有帮
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于半导体超精细研磨专用垫,所述研磨专用垫包括从一侧到另一侧方向依次复合的蜂窝网格层、第一双面不干胶层、PET基材层、第二双面不干胶层和离型纸,所述蜂窝网格层是带蜂窝通孔的PET片材,本发明的半导体超精细研磨专用垫,通过将现有的滚轮压制工艺改进为片材冲切工艺,再将多个片层进行复合得到一个整体,这种加工方法得到的研磨垫,可以使蜂窝孔的深度达到1.2mm左右,使用寿命延长一倍以上,并且厚度一致性较高,精度等级更高。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 精细 研磨 专用
【主权项】:
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