[发明专利]一种硅基Micro OLED微显示器件像素定义层制备方法

摘要

本发明提供一种应用于Micro OLED技术领域的硅基Micro OLED微显示器件像素定义层制备方法的步骤为：对完成阳极工艺的硅片(1)进行清洗、烘烤作业；对完成清洗、烘烤作业的硅片(1)进行像素定义层(2)成膜作业；对完成像素定义层(2)成膜的硅片(1)进行光刻作业；对完成光刻作业的硅片(1)进行退光阻及干法刻蚀作业，作业时，首先进行像素定义层(2)主刻蚀作业；对完成干法刻蚀的硅片(1)进行去胶作业，得到目标结构，本发明所述的硅基M i cro OLED微显示器件像素定义层制备方法，刻蚀过程中在主刻蚀前通过前通氧气的方式控制光刻胶后退，后刻蚀作业，循环此过程，最终形成阶梯状形貌，利于阴极爬坡，避免阴极在此处断裂，改善像素暗点异常。