[发明专利]一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置在审

专利信息
申请号: 202110718670.7 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN113376977A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 耿克涛;刘金 申请(专利权)人: 宁波润华全芯微电子设备有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;G03F7/16
代理公司: 宁波高新区永创智诚专利代理事务所(普通合伙) 33264 代理人: 胡小永
地址: 315400 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及HMDS处理设备技术领域,具体是涉及一种用于匀胶显影机的HMDS防漏保护装置,包括:HMDS罐;密封保护罩;氮气上料机构;还包括:机架;排风机构,安装在机架上,排风机构的抽气端设置在密封保护罩内部;吸收机构,设置在排风机构上;自动回收机构,设置在机架上,自动回收机构的抽气端与密封保护罩内侧顶端密封连接;控制器,设置在密封保护罩外侧壁上;泄露检测传感器,设置在密封保护罩内侧,泄露检测传感器与控制器电连接;密封保护罩外侧壁上安装有警报器,警报器与泄露检测传感器和控制器均电连接,本发明所示设备可以完全杜绝因为HMDS泄露造成的安全事故,若发生泄露则发出报警信号,切断原料供应,避免持续泄露,对泄露的HMDS进行收集。
搜索关键词: 一种 用于 显影 hmds 防漏 保护装置
【主权项】:
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