[发明专利]样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法在审
| 申请号： | 202110725252.0 | 申请日： | 2016-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN113391080A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 高木龙辉;若宫裕二 | 申请（专利权）人： | 希森美康株式会社 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00;G01N35/10 |
| 代理公司： | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人： | 杨永波 |
| 地址： | 日本兵库县神户市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够使新制备的清洗液占存放的清洗液的大部分并能用存放的清洗液迅速清洗样本分析装置的样本分析系统、清洗液制备装置、样本分析装置以及清洗液供应方法。清洗液的制备方法包括：在存放部件存放清洗样本分析装置所使用的清洗液，使用所述存放部件中存放的所述清洗液，所述存放部件内的所述清洗液的余量低于第一量时，向所述存放部件补给清洗液，在满足了预先设定的条件时，在使得用于向所述存放部件供应清洗液的流路的阀关闭的状态下，使用所述清洗液直至所述存放部件内的所述清洗液的余量变为比所述第一量少的第二量，之后，打开所述阀，向所述存放部件补给清洗液。 | ||
| 搜索关键词： | 样本 分析 系统 装置 清洗 制备 供应 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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