[发明专利]通孔层的OPC热点的修补方法在审
| 申请号： | 202110728158.0 | 申请日： | 2021-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN113376955A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 何大权;陈翰;张辰明 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种通孔层的OPC热点的修补方法，包括：输入初始OPC图形和热点标记图形；延伸和放大所述热点标记图形的中心线，以得到优化标记图形；选择与所述优化标记图形接触的所述初始OPC图形的边作为接触边，选择与所述接触边相邻的相邻边；向所述初始OPC图像的内部的方向扩展所述接触边，并且向所述初始OPC图形的外部的方向扩展相邻边，完成对OPC热点的修补。本发明可以修补通孔层的OPC热点，并且修补后不会产生新的OPC热点。 | ||
| 搜索关键词： | 通孔层 opc 热点 修补 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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